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Chemische Dampfdeposition CVD Wolframring Produkte Halbleiter

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xName | Wolframring | Molekülgewicht | 183,85 |
---|---|---|---|
Schmelzpunkt | °C 3410 | Dichte | 19,3 g/cm3 |
Anwendung | Halbleiter, chemisches Bedampfen (CVD) | Dehnfestigkeit | MPa 750 |
Markieren | Halbleiterwolframprodukte,Halbleiterwolframring |
Chemische Dampfdeposition CVD Wolframprodukte Halbleiter Wolframring
Wolframringe können in Breite, Dicke und Ringdurchmesser angepasst werden.mit einer Breite von nicht mehr als 20 mm,. Wir bieten kundenspezifische Ringe mit gegossenem oder hartem Temperament an und erfüllen die meisten gängigen Milspec- oder ASTM-Standards.Zusätzlich zu StandardlegierungenWir sind spezialisiert auf korrosionsbeständige Legierungen, Anwendungen bei hohen Temperaturen und maßgeschneiderte Formen und Formen, einschließlich maßgeschneiderter innerer und äußerer Abmessungen und Fäden.American Elements produziert auch Wolfram als StangenWolframringe können als Komponenten in einer Vielzahl von Anwendungen verwendet werden.
Parameter
Molekülgewicht |
183.85 |
---|---|
Aussehen |
Silberfarben |
Schmelzpunkt |
3410 °C |
Siedepunkt |
5900 °C |
Dichte |
19.3 g/cm3 |
Löslichkeit in H2O |
N/A |
Elektrische Widerstandsfähigkeit |
50,65 μΩ ·m (27 °C) |
Elektronenegativität |
1.7 Paulings |
Fusionswärme |
350,3 kJ/mol |
Wärme der Verdampfung |
8060,7 kJ/mol |
Poisson-Verhältnis |
0.28 |
Spezifische Wärme |
0.133 J/g Mol (20 °C) |
Zugfestigkeit |
750 MPa |
Wärmeleitfähigkeit |
10,73 W/m K |
Thermische Ausdehnung |
(25 °C) 4,5 μm·m-1·K-1 |
Vickers-Härte |
3430 MPa |
Young's Modulus |
411 GPa |
Wolframringanwendungen
1. weit verbreitet in Halbleiter-, chemischen Dampfdeposition (CVD) und physikalischen Dampfdeposition (PVD) Anzeige und optische Anwendungen;
2. bei der Herstellung von Elektroden, Heizelementen, Wärmeschildschirmen, Sinterplatten, Sinterbooten, Stapelblättern, Unterplatten, Sputterziele, Tiegeln für elektronische und Vakuumanwendungen eingesetzt.
3. können als Kontakte in Fahrzeugmotoren verwendet werden.