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Hohe Reinheit 99,97% Wolfram Ziel Bodenoberflächenverhältnisse für die Sputterbeschichtung

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xName | Wolfram-Ziel | Form | Runde |
---|---|---|---|
Material | WOLFRAM | Chemische Zusammensetzung | 99,97% |
Oberflächenbeschaffenheit | gedrechselt, Grund, polierend oder Spiegelpolieren | Anwendung | Beschichtung durch Spritzen |
Markieren | Ziel für Erdwolfram,Sputtering-Beschichtung Wolfram Ziel |
Hohe Reinheit 99,97% Wolfram Ziel für Sputtering Beschichtung
Einleitung
1Das Wolfram-Sputterziel verwendet die am besten bewährten Techniken, einschließlich Röntgenfluoreszenz (XRF), Leuchtentladungsmassenspektrometrie (GDMS) und induktiv gekoppeltem Plasma (ICP).
2. Wolframziel aus Achemetal ist mit einer hohen Reinheit von bis zu 99,97%, Dichte von 18,8-19 g/cm3, homogener Organisationsstruktur und feinem Korn versehen;
3Unser Wolfram-Sputterziel wurde von ASTM B 760-2007 und GB 3875-2006 genehmigt.
Parameter
OD (mm) |
Identifizierungsnummer (mm) |
Länge ((mm) |
Maßgeschneidert |
140 bis 300 |
120 bis 280 |
100 bis 3300 |
Nummer des Modells |
W1 |
|||
Form |
angepasst |
|||
Chemische Zusammensetzung |
990,95% W |
Merkmal
1. hohe Dichte
2. Hohe Verschleißfestigkeit
3. Hohe Wärmeleitfähigkeit mit niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizient
Spezifikation
Atomzahl |
74 |
CAS-Nummer |
7440-33-7 |
Atommasse |
183.84 [g/mol] |
Schmelzpunkt |
3420 °C |
Siedepunkt |
5555 °C |
Dichte bei 20 °C |
19.25 [g/cm3] |
Kristallstruktur |
Körperzentrierte Kubik |
Koeffizient der linearen thermischen Ausdehnung bei 20 °C |
4.410-6[m/mK] |
Wärmeleitfähigkeit bei 20 °C |
Die Daten werden in der Tabelle aufgeführt. |
Spezifische Wärme bei 20 °C |
0.13 [J/gK] |
Elektrische Leitfähigkeit bei 20 °C |
18.2106[S/m] |
Spezifischer elektrischer Widerstand bei 20 °C |
0.055 [(mm2)/m] |
Anwendungen
Halbleiter
chemische Dampfdeponierung (CVD)
Anzeige der physikalischen Dampfdeposition (PVD)