• Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    John Wilson
    Hypersolid Metal Tech Co., Ltd. ist ein sehr verantwortungsvolles Unternehmen, das unsere Probleme effektiv lösen kann. Ich hoffe, dass es in Zukunft Möglichkeiten zur Zusammenarbeit geben wird.
  • Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    Mia
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Ansprechpartner : sabrina.chen
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Hohe Reinheit 99,97% Wolfram Ziel Bodenoberflächenverhältnisse für die Sputterbeschichtung

Modellnummer Wolfram-Ziel
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Preis Negitionable
Verpackung Informationen Standard-Exportkartons
Lieferzeit 30 Tage nach Erhalt der Anzahlung
Zahlungsbedingungen L/C, D/A, D/P, T/T
Versorgungsmaterial-Fähigkeit 10000sets/month

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Produktdetails
Name Wolfram-Ziel Form Runde
Material WOLFRAM Chemische Zusammensetzung 99,97%
Oberflächenbeschaffenheit gedrechselt, Grund, polierend oder Spiegelpolieren Anwendung Beschichtung durch Spritzen
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Ziel für Erdwolfram

,

Sputtering-Beschichtung Wolfram Ziel

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Produkt-Beschreibung

Hohe Reinheit 99,97% Wolfram Ziel für Sputtering Beschichtung

 

Einleitung


1Das Wolfram-Sputterziel verwendet die am besten bewährten Techniken, einschließlich Röntgenfluoreszenz (XRF), Leuchtentladungsmassenspektrometrie (GDMS) und induktiv gekoppeltem Plasma (ICP).
2. Wolframziel aus Achemetal ist mit einer hohen Reinheit von bis zu 99,97%, Dichte von 18,8-19 g/cm3, homogener Organisationsstruktur und feinem Korn versehen;
3Unser Wolfram-Sputterziel wurde von ASTM B 760-2007 und GB 3875-2006 genehmigt.

 

Parameter

 

OD (mm)

Identifizierungsnummer (mm)

Länge ((mm)

Maßgeschneidert

140 bis 300

120 bis 280

100 bis 3300

 

 

Nummer des Modells

W1

Form

angepasst

Chemische Zusammensetzung

990,95% W

 

Merkmal

 

1. hohe Dichte
2. Hohe Verschleißfestigkeit
3. Hohe Wärmeleitfähigkeit mit niedrigem Wärmeausdehnungskoeffizient

 

Spezifikation

 

Atomzahl

74

CAS-Nummer

7440-33-7

Atommasse

183.84 [g/mol]

Schmelzpunkt

3420 °C

Siedepunkt

5555 °C

Dichte bei 20 °C

19.25 [g/cm3]

Kristallstruktur

Körperzentrierte Kubik

Koeffizient der linearen thermischen Ausdehnung bei 20 °C

4.410-6[m/mK]

Wärmeleitfähigkeit bei 20 °C

Die Daten werden in der Tabelle aufgeführt.

Spezifische Wärme bei 20 °C

0.13 [J/gK]

Elektrische Leitfähigkeit bei 20 °C

18.2106[S/m]

Spezifischer elektrischer Widerstand bei 20 °C

0.055 [(mm2)/m]

 

Anwendungen

 

Halbleiter

chemische Dampfdeponierung (CVD)

Anzeige der physikalischen Dampfdeposition (PVD)