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Hohe Reinheit 99,95% Wolfram Sputtering Ziel Sandstrahlen

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xOrdnungszahl | 74 | Atomgewicht | 183.84 |
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Siedepunkt | 5927°c | Electronegativity | 2.36 |
Material | WOLFRAM | Schmelzpunkt | 3410°c |
Oxidationsstufe | 6, 5, 4, 3, 2, 0, -1, -2, -3, -4, -5, -6 | Oberflächenbehandlung | Polnisch, Sandstrahlen, Anodisierung, etc. |
Markieren | hochreines Wolfram zum Sputtern,Sandstrahlungs-Wolfram-Sputter-Ziel,990 |
1,Beschreibung:
Material: Wolfram-Zielmaterialien werden in der Regel aus hochreinem Wolfram oder Wolframlegierungen hergestellt, die speziell für die Verwendung in physikalischen Dampfdeposition (PVD) -Prozessen entwickelt wurden.
Hoher Schmelzpunkt: Wolfram hat einen außergewöhnlich hohen Schmelzpunkt von ca. 3422 Grad Celsius (6.191 Grad Fahrenheit),mit einer Breite von mehr als 20 mm,.
Dichte: Wolfram-Zielmaterialien haben eine hohe Dichte, typischerweise zwischen 17,8 und 19,3 Gramm pro Kubikzentimeter (g/cm3), was eine hohe Ablagerungsrate und eine effiziente Materialverwertung gewährleistet.
2,Spezifikationen:
Material | mit einer Breite von nicht mehr als 30 mm |
Schmelzpunkt | Ungefähr 3422 Grad Celsius |
Dichte | 17.8 - 19,3 Gramm pro Kubikzentimeter (g/cm3) |
Wärmeleitfähigkeit | Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit |
Sputterrate | Relativ geringe Sputterrate, minimale Materialverluste |
Reinheit | Hohe Reinheit, minimale Verunreinigungen |
Einheitlichkeit | Genaue Abmessungen und Einheitlichkeit für eine gleichbleibende Filmdeposition |