• Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    John Wilson
    Hypersolid Metal Tech Co., Ltd. ist ein sehr verantwortungsvolles Unternehmen, das unsere Probleme effektiv lösen kann. Ich hoffe, dass es in Zukunft Möglichkeiten zur Zusammenarbeit geben wird.
  • Luoyang Hypersolid Metal Tech Co., Ltd
    Mia
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Ansprechpartner : sabrina.chen
Telefonnummer : +86 15836043611

Hohe Reinheit 99,95% Wolfram Sputtering Ziel Sandstrahlen

Herkunftsort China
Markenname Hypersolid Metal
Min Bestellmenge Verhandeln
Preis Negitionable
Verpackung Informationen Standard-Exportkartons
Lieferzeit 30 Tage nach Erhalt der Anzahlung
Zahlungsbedingungen L/C, D/A, D/P, T/T, Western Union, MoneyGram
Versorgungsmaterial-Fähigkeit 10000sets/month

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Produktdetails
Ordnungszahl 74 Atomgewicht 183.84
Siedepunkt 5927°c Electronegativity 2.36
Material WOLFRAM Schmelzpunkt 3410°c
Oxidationsstufe 6, 5, 4, 3, 2, 0, -1, -2, -3, -4, -5, -6 Oberflächenbehandlung Polnisch, Sandstrahlen, Anodisierung, etc.
Markieren

hochreines Wolfram zum Sputtern

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Sandstrahlungs-Wolfram-Sputter-Ziel

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990

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Produkt-Beschreibung

1,Beschreibung:

Material: Wolfram-Zielmaterialien werden in der Regel aus hochreinem Wolfram oder Wolframlegierungen hergestellt, die speziell für die Verwendung in physikalischen Dampfdeposition (PVD) -Prozessen entwickelt wurden.

Hoher Schmelzpunkt: Wolfram hat einen außergewöhnlich hohen Schmelzpunkt von ca. 3422 Grad Celsius (6.191 Grad Fahrenheit),mit einer Breite von mehr als 20 mm,.

Dichte: Wolfram-Zielmaterialien haben eine hohe Dichte, typischerweise zwischen 17,8 und 19,3 Gramm pro Kubikzentimeter (g/cm3), was eine hohe Ablagerungsrate und eine effiziente Materialverwertung gewährleistet.

 

2,Spezifikationen:

Material mit einer Breite von nicht mehr als 30 mm
Schmelzpunkt Ungefähr 3422 Grad Celsius
Dichte 17.8 - 19,3 Gramm pro Kubikzentimeter (g/cm3)
Wärmeleitfähigkeit Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit
Sputterrate Relativ geringe Sputterrate, minimale Materialverluste
Reinheit Hohe Reinheit, minimale Verunreinigungen
Einheitlichkeit Genaue Abmessungen und Einheitlichkeit für eine gleichbleibende Filmdeposition

 

Hohe Reinheit 99,95% Wolfram Sputtering Ziel Sandstrahlen 0Hohe Reinheit 99,95% Wolfram Sputtering Ziel Sandstrahlen 1